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JAI Sweep · 单色 / 三线彩色 / 双线彩色线扫

JAI Sweep · 单色 / 三线彩色 / 双线彩色线扫

Sweep 系列:高行频线扫与三线 / 双线彩色

产品概述

单色 / 三线彩色 / 双线彩色线扫 面向科研与高端 R&D 成像需求。 棱镜线扫与多传感器面阵

  • 棱镜式线阵可在高行频下保持波段对齐
  • 面阵 Fusion / Apex 系列兼顾可见与 NIR 同步采集
  • 相比高光谱,多光谱更强调特定波段组合与实时性
  • Sweep+ 三/四传感器棱镜线扫适合印刷、分选与遥感条带
  • Apex 三 CMOS 棱镜面阵提供真彩色与高帧率
  • Fusion 双传感器可见 + NIR 便于植被与材料区分

Sweep 型号规格汇总

当前显示 12 / 12

点击表头执行排序

SW-2005M-5GE2048×1172 kHzmonoJAI Sweep7 µm400nm-700nm5GigE0 to 50 °CM42 / F-Mount8, 10, 12 bit查看 PDF
SW-2005M-CXP2048×1172 kHzmonoJAI Sweep7 µm400nm-700nmCoaXPress0 to 50 °CM42 / F-Mount8, 10, 12 bit查看 PDF
SW-2005TL-5GE2048 × 3(三线)44 kHzcolorJAI Sweep7 µm400nm-700nm5GigE0 to 50 °CM42 / F-Mount8, 10, 12 bit查看 PDF
SW-4000M-PMCL4096×1200 kHzmonoJAI Sweep7 µm400nm-700nmCamera Link0 to 50 °CM42 / F-Mount8, 10, 12 bit查看 PDF
SW-4000TL-10GE4096 × 3(三线)66 kHzcolorJAI Sweep7 µm400nm-700nm10GigE0 to 50 °CM42 / F-Mount8, 10, 12 bit查看 PDF
SW-4000TL-PMCL4096 × 3(三线)66 kHzcolorJAI Sweep7 µm400nm-700nmCamera Link0 to 50 °CM42 / F-Mount8, 10, 12 bit查看 PDF
SW-4005M-5GE4096×184 kHzmonoJAI Sweep7 µm400nm-700nm5GigE0 to 50 °CM42 / F-Mount8, 10, 12 bit查看 PDF
SW-8000M-PMCL8192×1100 kHzmonoJAI Sweep5 µm400nm-700nmCamera Link0 to 50 °CM42 / F-Mount8, 10, 12 bit查看 PDF
SW-8001M-MCL8192×1100 kHzmonoJAI Sweep5 µm400nm-700nmCamera Link0 to 50 °CM42 / F-Mount8, 10, 12 bit查看 PDF
SW-8001TL-MCL8192 × 3(三线)34 kHzcolorJAI Sweep5 µm400nm-700nmCamera Link0 to 50 °CM42 / F-Mount8, 10, 12 bit查看 PDF
SW-16000M-CXP4A16384×1277 kHzmonoJAI Sweep3.5 µm400nm-700nmCoaXPress0 to 50 °CM42 / F-Mount8, 10, 12 bit查看 PDF
SW-16000TL-CXP4A16384 × 3(三线)100 kHzcolorJAI Sweep3.5 µm400nm-700nmCoaXPress0 to 50 °CM42 / F-Mount8, 10, 12 bit查看 PDF

多光谱相机说明

JAI 多光谱相机采用棱镜分光或多传感器同光路结构,把同一视场分配到不同光谱通道。与普通 Bayer 彩色相机相比,它可以减少插值带来的颜色串扰;与高光谱相机相比,它聚焦少数关键波段,更适合在线检测、同步测量和实时分选。

棱镜分光与真同步

同一目标、同一时刻、多通道采集

  • Sweep+ 与 Apex 通过棱镜把入射光分到多个传感器,RGB、NIR 或 SWIR 通道保持几何对齐。
  • 对高速运动目标,棱镜方案比多台相机拼装更容易保证曝光同步和空间配准。
  • Apex 面阵适合静态或间歇拍摄场景;Sweep+ 线扫更适合传送带、卷材和连续扫描。

和高光谱的选型区别

固定波段优先实时性,连续光谱优先材料识别

  • 多光谱适合已知特征波段,例如 RGB+NIR 的植被指数、印刷分色、异物分选与表面缺陷增强。
  • 高光谱覆盖更多连续波段,适合未知材料识别、谱库匹配和实验室分析,但数据量与系统复杂度更高。
  • 如果目标是产线节拍和稳定判别,通常先评估多光谱;如果需要建立材料光谱模型,再考虑高光谱。

经典案例